Diseñadora peruana viajará a la Semana de la Moda de Nueva York 2018
La diseñadora Ana María Guiulfo fue la ganadora del concurso que realizó Epson en la última edición de la Semana de la Moda en Perú LifWeek OI 2017.
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La Semana de la Moda en Perú ha tenido una gran aceptación por parte del público fashionista ya que junto a los nuevos talentos en la moda se pudieron apreciar diseños, colores y tendencias que vendrán para esta temporada otoño-invierno 2017. El LIFWeek también sirvió como plataforma para el concurso que lanzó EPSON para llevar a un diseñador peruano a Nueva York.
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La reconocida diseñadora peruana, Ana María Guiulfo resultó ganadora del concurso que realizó la empresa líder en tecnología de impresión gracias a sus innovadores diseños. La ganadora del premio tendrá seis meses para diseñar y confeccionar una colección cápsula de 4 a 6 outfits completos, sublimados en impresoras Surecolor Serie F de Epson, brindando una representación visual del impacto que tienen las tecnologías de impresión digital en la moda y la industria textil.
Cabe mencionar que Ana María Guiulfo ha sido pionera en sublimación textil digital en Perú y este año contará con el apoyo de EPSON para estampar en tela sus creaciones.
Para el concurso Epson Digital Couture 2017 presentado en el LIEWeek tuvo como jurado a Gerardo Larrea, Antonio Choy Kay y la diseñadora Susan Wagner, quienes hicieron la entrega de dos pasajes a Nueva York, $2,000 y hasta 60 mts de sublimación de tela para el diseño y la confección de la colección de Ana María, ya que ella representará al Perú en el EPSON Digital Couture 2018 en New York.
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Este sin duda es una gran iniciativa ya que impulsa a la creación de nuevas tendencias por parte de los diseñadores peruanos para poder sobresalir en el rubor de la moda internacionalmente.