Diseñadora peruana viajará a la Semana de la Moda de Nueva York 2018

La Semana de la Moda en Perú ha tenido una gran aceptación por parte del público fashionista  ya que junto a los nuevos talentos en la moda se pudieron apreciar diseños, colores y tendencias que vendrán para esta temporada otoño-invierno 2017. El LIFWeek también  sirvió como plataforma para el concurso que lanzó EPSON para llevar a un diseñador peruano a Nueva York.

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La reconocida diseñadora peruana, Ana María Guiulfo resultó ganadora del concurso que realizó la empresa líder en tecnología de impresión gracias a sus innovadores diseños. La ganadora del premio tendrá seis meses para diseñar y confeccionar una colección cápsula de 4 a 6 outfits completos, sublimados en impresoras Surecolor Serie F de Epson, brindando una representación visual del impacto que tienen las tecnologías de impresión digital en la moda y la industria textil.

Cabe mencionar que Ana María Guiulfo ha sido pionera en sublimación textil digital en Perú y este año contará con el apoyo de EPSON para estampar en tela sus creaciones.

Para el concurso Epson Digital Couture 2017 presentado en el LIEWeek tuvo como jurado a Gerardo Larrea, Antonio Choy Kay y la diseñadora Susan Wagner, quienes hicieron la entrega de dos pasajes a Nueva York, $2,000 y hasta 60 mts de sublimación de tela para el diseño y la confección de la colección de Ana María, ya que ella representará al Perú en el EPSON Digital Couture 2018 en New York.

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Este sin duda es una gran iniciativa ya que impulsa a la creación de nuevas tendencias por parte de los diseñadores peruanos para poder sobresalir en el rubor de la moda internacionalmente.