EPSON presentó novedoso concurso para los diseñadores que participarán del LifWeek 2017 [VIDEO]

Esta empresa llevará a uno de los 15 diseñadores de moda que se presentaran en la edición otoño-invierno de LifWeek 2017 hacia las pasarelas de Nueva York.

Epson, líder mundial en impresión e imagen digital, convocó a los 15 diseñadores de modas que se presentarán en la edición otoño-invierno de LIFWeek 2017, para presentar el concurso que tiene como premio llevar a un diseñador al próximo Epson Digital Couture 2018 en la Semana de la Moda de Nueva York.

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El concurso consiste en que  cada diseñador que se presentará en el LifWeek 2017, tendrá seis meses para diseñar y confeccionar una colección Cápsula de 4 a 6 outfits completos para luego ser “sublimados” con la nueva tecnología que cuenta Epson que se basa en la impresión de imágenes  que luego serán estampados en la tela, obteniendo una mayor definición de colores y texturas que será presentado en el LifWeek del mes de octubre y el ganador presentará sus diseños en la semana de la moda 2018 en la ciudad de New York.

En el evento estuvo la diseñadora Susan Wagner, ella fue la única peruana presente en  New York para la Semana de la Moda que tuvo lugar el pasado febrero mostrando al público su colección que fue estampada  en su totalidad por las impresoras de la marca. “Finalmente es lo que tenía que ocurrir, la tecnología esta de la mano con la moda y el diseño”, comentó la diseñadora.

Juan Carlos Morante, jefe de producto  de EPSON, nos comenta que esta línea de impresoras tiene la particularidad de poder imprimir en un papel algún diseño que se escoja y luego transferir a la tela o a cualquier material sólido como mayólicas, plástico, entre otros, para obtener un color más uniforme en el producto.

El ganador del concurso firmará un contrato para representar a la marca en el EPSON Digital Couture 2018 en New York, recibiendo como premio US$2,000 para el diseño y la confección de la colección y hasta 60 mts de sublimación de tela para la confección de la línea a presentar en Nueva York. 

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Este concurso alienta a nuevos diseñadores peruanos a explorar muchos más aspectos de la moda para crear nuevas tendencias.

 

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