Diseñadora peruana se presentó en las pasarelas del Fashion Week de Nueva York [FOTOS]

Susan Wagner fue la peruana seleccionada por EPSON para presentar su colección en el Fashion Week y se inspiró en los milenarios tejidos del Museo Amano.

La tercera edición anual del evento Epson Digital Couture Project se dio a cabo en Nueva york, previo a la Semana de la Moda, brindando una representación visual acerca del impacto que tienen las tecnologías de impresión digital de Epson en la moda y la industria textil. La presentación de moda, desarrollada en base a la temática “Historias Textiles”, exhibió las colecciones de 13 equipos de diseño de Norteamérica y Latinoamérica creadas con las exclusivas soluciones de impresión textil de Epson.

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La diseñadora Susan Wagner viajó a Nueva York para representar al Perú en este importante evento de la industria textil con una colección Cápsula inspirada en los milenarios textiles del museo AMANO de Lima.

“En esta colección que presenté para el Digital Couture de EPSON he mezclado variadas técnicas y diferentes materiales para hacer la colección aún más interesante, mostrando pasado, presente y futuro sobre la tela”, comentó Susan.

El evento se llevó a cabo en el Edificio IAC, ubicado en el barrio de Chelsea de Nueva York, y contó con la presencia de selectos artistas de la industria de la moda y celebridades. El evento presentó los ilimitados diseños que pudieron desarrollarse gracias a la tecnología de impresión textil dela marca.

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“La tecnología que ofrece Epson a la industria de la moda ha permitido a algunos de los artistas más importantes del mundo desarrollar creaciones espectaculares, desde impecables impresiones de fotografías hasta piezas únicas exhibidas en museos, impulsando así una nueva era de la impresión digital en la industria textil”, comentó Keith Kratzberg, presidente y director ejecutivo. 

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